特許

J-GLOBAL ID：200903015545394033

反射防止膜の形成方法、反射防止膜の形成装置、反射防止膜および光学部品

発明者： 宮尾 信之
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-222992
公開番号（公開出願番号）：特開2006-039450
出願日： 2004年07月30日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：

【課題】曲面を有する基材であっても、容易に反射防止膜を形成することができる反射防止膜の形成方法および反射防止膜の形成装置を提供すること、また、これら方法および装置を用いて形成された反射防止膜、このような反射防止膜を備えた光学部品を提供すること。【解決手段】 本発明の反射防止膜の形成方法は、曲面を有する基材の曲面上に成形型を用いて、表面に所定のパターンの微細な凹凸を有する反射防止膜を形成する方法であって、成形型は、シリコーン樹脂で構成され、かつ、形成すべき反射防止膜の表面形状に対応したパターンの微細な凹凸が形成されており、曲面上に、樹脂を供給する工程と、曲面上に供給した樹脂に、成形型を圧接する工程と、樹脂を固化させ、固化物を得る工程と、固化物から前記成形型を剥離する工程とを有することを特徴とする。凹凸のピッチおよびその高低差のいずれもが、可視光の波長未満である。【選択図】無し

請求項（抜粋）：

曲面を有する基材の前記曲面上に成形型を用いて、表面に所定のパターンの微細な凹凸を有する反射防止膜を形成する方法であって、 前記成形型は、シリコーン樹脂で構成され、かつ、形成すべき前記反射防止膜の表面形状に対応したパターンの微細な凹凸が形成されており、 前記曲面上に、樹脂を供給する工程と、 前記曲面上に供給した前記樹脂に、前記成形型を圧接する工程と、 前記樹脂を固化させ、固化物を得る工程と、 前記固化物から前記成形型を剥離する工程とを有することを特徴とする反射防止膜の形成方法。

IPC (3件)：

G02B 1/11 ,  B29C 39/02 ,  B29C 39/26

FI (3件)：

G02B1/10 A ,  B29C39/02 ,  B29C39/26

Fターム (31件)：

2K009AA04 ,  2K009AA12 ,  2K009BB02 ,  2K009BB12 ,  2K009BB22 ,  2K009CC22 ,  2K009CC32 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD09 ,  2K009DD15 ,  4F202AH78 ,  4F202AJ05 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CL28 ,  4F204AA44 ,  4F204AD04 ,  4F204AD05 ,  4F204AE10 ,  4F204AF01 ,  4F204AG05 ,  4F204AH33 ,  4F204AH78 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EB29 ,  4F204EF27 ,  4F204EK18

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特開平1-97902号公報