電子線描画装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059913
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267134
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【構成】電子線描画装置の試料台制御回路12に目標速度記憶装置15を付加し、あらかじめ空描画等によって計算された各描画位置ごとの最適目標描画速度を記憶させる。実描画時には、目標描画位置に応じてその目標描画速度を読みだし、現在位置と目標描画位置との偏差を小にするだけでなく、現在速度と目標速度との偏差をも小になるように試料台を制御する。【効果】目標描画速度をあらかじめ最適に設定しておくことにより、将来発生する描画速度の変化をも予測し、最適の試料台制御を実現できる。そのため、従来方式に比べて加減速の少ない効率の良い試料台制御が可能で、精度の高い高速描画が実現できる。

請求項（抜粋）：

試料台の位置を連続的に移動させながら、その試料台上の試料に描画を行なう電子線描画装置において、その試料台位置制御回路が、予め各描画位置に対応して計算された目標速度を記憶する目標速度記憶手段を持ち、入力となる描画位置信号を用いて該目標速度記憶手段中の対応する目標速度を読みだし、試料台の現在速度が、読みだされた目標速度に近づくように試料台の速度を制御する制御手段を持つことを特徴とする電子線描画装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 341 J , H01L 21/30 341 D

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平1-205421
特開平3-290919
特開平2-302021

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審査官引用 (5件)

特開平1-205421
特開平3-290919
特開平2-302021

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