特許

J-GLOBAL ID：200903015563671010

ウエハ洗浄方法及びそのための装置

発明者： 沢井 和夫
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 清水 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-004772
公開番号（公開出願番号）：特開平9-199462
出願日： 1996年01月16日
公開日（公表日）： 1997年07月31日
要約：

【要約】【課題】 ステッパ露光直前にウエハ裏面の洗浄を可能にし、ステッパ露光時のウエハ裏面のパーティクルによるディフォーカスを防止できるウエハ洗浄方法及びそのための装置を提供する。【解決手段】 ウエハ洗浄方法において、回転軸32がウエハ21上部に位置し、前記ウエハ21上部からウエハ表面のレジスト除去部分をチャックし、ステッパ露光直前にウエハ21裏面の洗浄を可能にする。

請求項（抜粋）：

ウエハ洗浄方法において、(a)回転軸がウエハ上部に位置し、前記ウエハ上部からウエハ表面のレジスト除去部分をチャックし、(b)ステッパ露光直前にウエハ裏面の洗浄を可能にするようにしたことを特徴とするウエハ洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 351 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/68 P ,  H01L 21/30 565