特許

J-GLOBAL ID：200903015569775410

パターン成膜装置およびパターン成膜方法

発明者： 目々澤 聡彦 ,  田中 貞雄 ,  簗嶋 克典 ,  成井 啓修 ,  佐々木 浩司
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-187073
公開番号（公開出願番号）：特開2004-031181
出願日： 2002年06月27日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】基板表面に対して薄膜化したマスクを高精度に配置させ、位置精度良好なパターン成膜を行うことが可能なパターン成膜装置および方法を提供する。【解決手段】基板Wを垂直に保持する基板保持手段3、マスクMに垂直方向の張力を付加した状態で基板保持手段Mに保持される基板Wの一主面Wa側にマスクMを対向配置するマスク保持手段5、基板保持手段3に保持された基板Wとマスク保持手段5に保持されたマスクMとの位置関係を検出する位置検出手段7、位置検出手段7で検出された位置関係に基づいて、基板WとマスクMとが所定の位置関係となるように基板保持手段3を移動させるアライメント手段9を備えた。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

開口パターンを有するマスクを用いて基板の一主面上にパターン成膜を行う際に用いるパターン成膜装置であって、 基板を垂直に保持する基板保持手段と、 マスクに垂直方向の張力を付加した状態で前記基板保持手段に保持される基板の一主面側に当該マスクを対向配置するマスク保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板と前記マスク保持手段に保持されたマスクとの位置関係を検出する位置検出手段と、 前記位置検出手段で検出された位置関係に基づいて、前記基板と前記マスクとが所定の位置関係となるように前記基板保持手段および前記マスク保持手段の少なくとも一方を移動させるアライメント手段とを備えた ことを特徴とするパターン成膜装置。

IPC (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  H05B33/14

FI (3件)：

H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  H05B33/14 A

Fターム (10件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029BD00 ,  4K029EA00 ,  4K029HA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA04