特許

J-GLOBAL ID：200903015571487325

液晶光学素子およびその製造方法

発明者： 五藤 智久 ,  斉藤 悟郎 ,  中田 大作 ,  村井 秀哉
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 舘野 千惠子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-191403
公開番号（公開出願番号）：特開平6-011694
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：

【要約】【目的】 高分子分散液晶素子の光散乱強度を理論的な最大の値とする。またリバースモードの素子を提供する。【構成】 2枚の基板間に光硬化性高分子化合物前駆体と液晶材料とからなる溶液を挟持し、液晶材料が所定の配向状態をとるような電場または磁場の印加下で光を照射して光硬化させ、調光層を形成する。この調光層から液晶材料を抽出した後、別の液晶材料を注入しても、電場無印加時に同じ配向状態を示すので、誘電率異方性が負の液晶材料を用いて硬化させ、誘電率異方性が正の液晶材料を注入すると散乱強度の高い素子が得られ、また誘電率異方性が正の液晶材料を用いて硬化させ、誘電率異方性が負の液晶材料を注入するとリバースモードの素子が得られる。

請求項（抜粋）：

電極層を有する少なくとも一方が透明な2枚の基板間に光硬化性高分子化合物と液晶材料とを挟持してなる液晶光学素子であって、前記液晶材料が光硬化時とは異なる液晶材料であり、かつ前記光硬化性高分子化合物と前記液晶材料との界面の相互作用により前記液晶材料が所定の方向に配向していることを特徴とする液晶光学素子。