特許
J-GLOBAL ID:200903015572717367

プラズマ処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 新 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-345573
公開番号(公開出願番号):特開2000-173998
出願日: 1998年12月04日
公開日(公表日): 2000年06月23日
要約:
【要約】【課題】 プラズマ処理装置において、容器天井板が容器内に入射させる電磁波パワーにより熱衝撃で破損されず、また、エッチング用のプロセスガスや容器内壁面に付着した皮膜除去用のガスによって腐食されないように構成したプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 このプラズマ処理装置は、プラズマ処理すべき被処理体が内部に配置される容器1と、その容器1の周囲に配設されて容器1内の被処理体の処理すべき表面に実質的に並行な磁場を形成する電磁石8と、容器1の天井板3の上部に配設され容器1内にプラズマを発生させるための電磁波を容器1の内部に向けて入射させるアンテナ11とを有している。このプラズマ処理装置において、天井板3を、容器の内部側をアルミナ板3-2、容器の外部側を石英板3-1とした2重構造としている。アルミナ板3-2は分割構造とされている。
請求項(抜粋):
表面をプラズマ処理すべき被処理体が内部に配置される容器と、同容器の周囲に配設されて同容器内の被処理体の処理すべき表面に実質的に並行な磁場を形成する磁石と、前記容器の天井板の上部に配設され同容器内にプラズマを発生させるための電磁波を前記容器の内部に向けて入射させるアンテナと、を有するプラズマ処理装置において、前記天井板を容器の内部側をアルミナ板、容器の外部側を石英、SiNなどのSi系絶縁板とした2重構造の天井板としたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3件):
H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (3件):
H01L 21/302 B ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L
Fターム (15件):
5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB18 ,  5F004BB29 ,  5F004BC08 ,  5F045AA08 ,  5F045DB01 ,  5F045DP02 ,  5F045DP03 ,  5F045EB01 ,  5F045EB03 ,  5F045EH03 ,  5F045EH11 ,  5F045EH16

前のページに戻る