特許
J-GLOBAL ID：200903015580562968

加熱体、加熱装置及び画像形成装置

発明者：
小川 賢一

小川 賢一 について

, 
中嶋 義昭

中嶋 義昭 について

, 
前田 耕平

前田 耕平 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-128829
公開番号（公開出願番号）：特開2000-323261
出願日： 1999年05月10日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：
【要約】【課題】 加熱体基材の熱伝導率の範囲を適切に設定することで、熱ストレスによる破壊や、熱の逃げを防止した加熱体、加熱装置及び画像形成装置を提供すること。【解決手段】 基材2と、該基材上に設けられた発熱部3とを有する加熱体10において、上記基材2の熱伝導率が、30〜180W/m・K(25°C)の範囲内にあること。
請求項（抜粋）：
基材と、該基材上に設けられた発熱部とを有する加熱体において、上記基材の熱伝導率が、30〜180W/m・K(25°C)の範囲内にあることを特徴とする加熱体。
IPC (2件)：
H05B 3/00 335 ,  G03G 15/20 101
FI (2件)：
H05B 3/00 335 ,  G03G 15/20 101
Fターム (12件)：
2H033AA02 ,  2H033AA32 ,  2H033BA26 ,  2H033BE03 ,  3K058AA86 ,  3K058BA18 ,  3K058CA23 ,  3K058CA61 ,  3K058CE13 ,  3K058CE19 ,  3K058DA26 ,  3K058GA06
引用特許：
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM