特許

J-GLOBAL ID：200903015581645212

エッチング装置

発明者： 牧 正人 ,  砂田 剛 ,  藤本 秀樹 ,  林 俊雄
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-142592
公開番号（公開出願番号）：特開平6-316779
出願日： 1991年05月19日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：

【要約】【目的】この発明の目的は、エッチング形状の異方性を低下させることなく、均一なエッチングを高速度で可能にするエッチング装置を提供するものである。【構成】この発明は、真空槽内に接地された平板なアノード電極と高周波電力の印加された平板なカソード電極とを平行に対向して配置すると共に、アノード電極の背後にカスプ型の磁石を配設し、アノード電極とカソード電極との間に発生したプラズマによって、カソード電極上に載置された基板をエッチングするエッチング装置において、平板なカソード電極に対してほぼ垂直な磁界を発生する磁石を真空槽外もしくは真空槽内に設けたことを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

真空槽内に接地された平板なアノード電極と高周波電力の印加された平板なカソード電極とを平行に対向して配置すると共に、平板なアノード電極の背後にカスプ型の磁石を配設し、アノード電極とカソード電極との間で発生したプラズマによって、カソード電極上に載置された基板をエッチングするエッチング装置において、上記平板なカソード電極に対してほぼ垂直な磁界を発生する磁石を上記真空槽外または真空槽内に設けたことを特徴とするエッチング装置。

IPC (2件)：

C23F 4/00 ,  H01L 21/302