特許
J-GLOBAL ID：200903015585063498
化学増幅型ポジレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-066665
公開番号（公開出願番号）：特開平9-054437
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、露光-露光後(PEB)間の経時による感度低下や、T-トップ形成及び線巾の細りなどの問題のない良好なレジストを形成することができる化学増幅型ポジレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明は、(A)第3級アルキルエステル基及び第3級アルキルカーボネート基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(B)アセタール基及びシリルエーテル基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(C)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(D)有機塩基性化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)第3級アルキルエステル基及び第3級アルキルカーボネート基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(B)アセタール基及びシリルエーテル基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する化合物、(C)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(D)有機塩基性化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
