特許
J-GLOBAL ID：200903015585241973
画像形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295344
公開番号（公開出願番号）：特開平11-188834
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：
【要約】【課題】 架橋性材料層に、正確でしかも低コストの硬化高分子画像を形成する方法を提供することを目的とする。【解決手段】 第一基材上に架橋性高分子物質の塗膜を形成し、前記の塗膜化第一基材に、インクジェット印刷により第一架橋剤をパターン状に施して、高分子物質を架橋させ、前記の塗膜化第一基材を洗浄して、第一架橋剤が施されなかった領域中の架橋性高分子を除去し;そして前記第一基材上の架橋化高分子を第二基材に転写することを含んでなる画像形成方法。
請求項（抜粋）：
第一基材上に架橋性高分子物質の塗膜を形成し、前記の塗膜化第一基材に、インクジェット印刷により第一架橋剤をパターン状に施して、高分子物質を架橋させ、前記の塗膜化第一基材を洗浄して、第一架橋剤が施されなかった領域中の架橋性高分子を除去し;そして前記第一基材上の架橋化高分子を第二基材に転写する、ことを含んでなる画像形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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