特許

J-GLOBAL ID：200903015594017318

5-ヒドロキシメチル-2-イソオキサゾリン類の製造方法及び該製造に際して用いられる中間体

発明者： 井 坂 明 洋 ,  影 山 邦 夫 ,  尾 崎 庄一郎 ,  秋 山 隆 彦
出願人/特許権者： 横浜ゴム株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 望稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-041176
公開番号（公開出願番号）：特開平5-239040
出願日： 1992年02月27日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】光学分割することなく、(S)-又は(R)-5-ヒドロキシメチル-2-イソオキサゾリン類を製造する方法の提供。【構成】式(1)のイソオキサゾリン類の環元による式(2)の(S)-5-ヒドロキシメチル-2-イソオキサゾリン類の製造方法、及び式(3)のイソオキサゾリン誘導体の環元による式(4)の(R)-5-ヒドロキシメチル-2-イソオキサゾリン類の製造方法。5-ヒドロキシメチル-2-イソオキサゾリン類の製造中間体である式(1)及び(3)イソオキサゾリン誘導体、式(5)のアクリルエステル誘導体並びにその製造方法。(R1は-SiR3;R、R2はアルキル、芳香族基)

請求項（抜粋）：

下記構造式(1)で示されるイソオキサゾリン誘導体を【化1】(但しここでR1 は-SiR3 で示される有機シリル基で、Rはアルキル基又は芳香族基であり、R2 はアルキル基又は芳香族基である)還元することを特徴とする下記構造式(2)で示される(S)-5-ヒドロキシメチル-2-イソオキサゾリン類の製造方法。【化2】

IPC (4件)：

C07D261/04 ,  C07B 53/00 ,  C07D493/04 101 ,  C07F 7/08