特許

J-GLOBAL ID：200903015599844557

投影露光装置

発明者： 佐藤 健志
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 最上 健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-339938
公開番号（公開出願番号）：特開平9-162112
出願日： 1995年12月05日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】 照度を低下させず、また照度分布を悪化させることなく、傾斜照明による高い解像度を得ることの可能な照明光学系を備えた投影露光装置を提供する。【解決手段】 原版とされるマスクに形成された微細パターン群を半導体基板上に結像投影するための投影光学系と、光源からの照明光を前記マスクに一様に照射するための照明光学系とを備えた投影露光装置において、マスク上にレイアウトする露光光に対して透過性を有する基板の上面に、Y方向に回折作用を生じさせる周期パターンを有するY方向回折格子2を配設し、下面にX方向に回折作用を生じさせる周期パターンを有するX方向回折格子3を配設して形成した位相型回折素子1を配置して照明光学系を構成する。

請求項（抜粋）：

原版とされるマスクに形成された微細パターン群を半導体基板上に結像投影するための投影光学系と、平行光束を供給し光源からの照明光を前記マスクに一様に照射するための照明光学系とを備えた投影露光装置において、前記照明光学系は前記マスク上に照射する照明光を傾けることが可能な回折素子を備え、該回折素子を前記投影光学系の開口数に対応した光軸に対する傾きを前記照明光に与えるように構成したことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521