EUV光発生装置におけるデブリ回収装置

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：木村高久 , 小幡義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-119756
公開番号（公開出願番号）：特開2004-327213
出願日： 2003年04月24日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】プラズマ化したターゲットから高速で集光ミラーに衝突するデブリや、集光ミラーに付着するようなデブリを効率よく回収することにより、チャンバ内の集光ミラーを含む光学機器の耐久性を向上させ、チャンバの真空度を維持し、EUV光の出力低下を抑制する。【解決手段】レーザ光Lの照射方向と、ターゲット1の進行方向とが対向するように、レーザ光照射手段10が配置される。ターゲット1の進行方向に、デブリ3を回収するデブリ回収手段30が配置される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

レーザ光照射手段からレーザ光がターゲットに対して照射されることによってターゲットがプラズマ状態にされEUV光が発生するEUV光発生装置に適用され、プラズマが生成される過程で発生するデブリを回収するようにしたEUV光発生装置におけるデブリ回収装置において、ターゲットの各面のうち、レーザ光が照射される照射面に対向させて、デブリを回収するデブリ回収手段が配置されていることを特徴とするEUV光発生装置におけるデブリ回収装置。

IPC (5件)：

H05G2/00 , G21K1/00 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/08

FI (5件)：

H05G1/00 K , G21K1/00 Z , G21K5/00 Z , G21K5/02 X , G21K5/08 X

Fターム (3件)：

4C092AA06 , 4C092AB19 , 4C092AC09

引用特許：

審査官引用 (1件)

X線発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-209897 出願人：株式会社ニコン

前のページに戻る