特許
J-GLOBAL ID:200903015613475764

接触型磁気ヘッド及び接触型磁気ヘッドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 上野 登
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-076876
公開番号(公開出願番号):特開2001-266308
出願日: 2000年03月17日
公開日(公表日): 2001年09月28日
要約:
【要約】【課題】 磁気回路を形成するための工程数を大幅に削減でき、加工歪やシードに起因する磁気回路の特性劣化を回避することが可能な接触型磁気ヘッド及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 絶縁層68a上にトップヨーク52を形成し、その上に絶縁層68b〜68e及びコイル62を順次形成する。次に、絶縁層68a〜68eを貫通する穴76を設け、穴76の底部にトップヨーク52の両端を露出させる。次に、絶縁層68eの上に三角形状の絶縁層68fを形成した後、トップヨーク52と繋がるようにボトム部74aを形成し、その上を絶縁層68gで覆う。次に、絶縁層68gの表面を研磨してボトム部4aをボトムヨーク74、74とし、ボトムヨーク74、74の先端にポールチップ58及び接触パッド59を形成する。さらに、これを基板12から分離して接触型磁気ヘッド70を得る。
請求項(抜粋):
磁気記録媒体に直接接触させながら磁気情報の記録再生を行う磁極パッドと、前記磁気記録媒体に対してほぼ平行に形成された磁性薄膜からなる磁気回路とを備えた接触型磁気ヘッドにおいて、前記磁気回路は、前記磁性薄膜からなる第1ヨークと、該第1ヨークの両端に直接繋がれた前記磁性薄膜からなる第2ヨークとを備えていることを特徴とする接触型磁気ヘッド。
FI (3件):
G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 A ,  G11B 5/31 D
Fターム (6件):
5D033AA02 ,  5D033BA07 ,  5D033BA12 ,  5D033DA03 ,  5D033DA04 ,  5D033DA07

前のページに戻る