特許

J-GLOBAL ID：200903015617749427

プラズマ点火装置、プラズマを用いる半導体製造装置及び半導体装置のプラズマ点火方法

発明者： 熊谷 浩洋
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-061550
公開番号（公開出願番号）：特開平9-251935
出願日： 1996年03月18日
公開日（公表日）： 1997年09月22日
要約：

【要約】【課題】 低圧下でプラズマを生成させることができる低圧プラズマの点火装置を提供することを目的とする。【解決手段】 低圧プラズマの点火装置(40)は、真空チャンバ(12)のアノード電極(18)を貫いて設けられた点火用筒体(56)を備えている。この点火用筒体(56)の出口部分はノズル(58)となっている。又、筒体の周りにはコイル(70)が配置されている。又、筒体の上部を貫通して、プラズマ生成用ガス供給配管(68)が接続されている。この構成によれば、アルゴンガス等のプラズマ生成用ガスが点火用筒体に導入されると、高密度プラズマが形成されて、ノズルにより減圧されて真空チャンバ内へ噴出される。噴出されたプラズマは種プラズマとなり、真空チャンバ内で低圧プラズマを容易に生成させることができる。

請求項（抜粋）：

プラズマ発生装置を構成するプロセスチャンバ内で、プラズマを発生させるために用いられるプラズマ点火装置であって、前記プロセスチャンバに取り付けられ、内部空間が前記プロセスチャンバ内と連通された点火チャンバと、前記点火チャンバの内部空間にプラズマ生成用ガスを供給するガス供給手段と、前記点火チャンバに導入された前記プラズマ生成用ガスを励起してプラズマを発生すべく、前記点火チャンバの周囲に配置されたコイルと、前記点火用コイルに接続され、高周波の電力を供給する電源手段と、を備えるプラズマ点火装置。