特許
J-GLOBAL ID：200903015635121524
多面付フォトマスク欠陥解析装置および欠陥解析方法ならびに該欠陥解析プログラムを記録した記憶媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-109864
公開番号（公開出願番号）：特開平10-301257
出願日： 1997年04月25日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 実際のフォトマスク欠陥の形状・大きさ・光学濃度等の情報を精度よく取り込み、かつ系統的な欠陥解析を迅速・容易に行うことができる多面付フォトマスク欠陥解析装置および欠陥解析方法を提供すること。【解決手段】 欠陥観察ユニット1において多面付フォトマスク3のフォトマスクパターン4a,4bがそれぞれ観察部6a,6bにおいて比較観察され、観察された画像は、それぞれ、観察画像出力部8a,8bから欠陥解析ユニット10へ受け渡される。そして、欠陥画像抽出部11にて欠陥画像が分離抽出され、欠陥画像とパターン画像とがそれぞれ欠陥画像データ変換部12a、パターンデータ合成部13にてシミュレーション用データに変換された後、パターンデータ合成部13にて合成され、該合成されたデータに基づいて光強度シミュレーション部15により光強度シミュレーションが行われる。
請求項（抜粋）：
同一フォトマスク上に複数の相似マスクパターンが配置された多面付フォトマスク上の欠陥による、フォトリソグラフィ工程における露光転写への影響を解析する多面付フォトマスク欠陥解析装置において、前記多面付フォトマスクの各マスクパターン上においてそれぞれ互いに相対的に一致する部分を比較観察し、該観察した各マスクパターンの画像情報を出力する観察手段と、前記観察手段から出力された各マスクパターンの画像情報を比較し、前記各マスクパターン上に存在する欠陥部分の画像情報を抽出する欠陥画像抽出手段と、前記抽出された欠陥部分の画像情報に対し、拡大・縮小または変形等の画像処理を行い、かつ、該画像情報を光強度シミュレーションを行うためのシミュレーション用データに変換する欠陥データ変換手段と、前記データ変換手段により変換された欠陥部分のシミュレーション用データと、予め記憶しているマスクパターンのシミュレーション用データとを合成するデータ合成手段と、前記データ合成手段により合成されたデータに基づいて光強度シミュレーションを実施し、シミュレーション結果を解析するシミュレーション手段とからなる多面付フォトマスク欠陥解析装置。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, H01L 21/66
G03F 1/08 S
, H01L 21/66 J
, H01L 21/66 Z
, H01L 21/30 502 V
