特許
J-GLOBAL ID：200903015637637480
排気ガス還流装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-290684
公開番号（公開出願番号）：特開平11-125148
出願日： 1997年10月23日
公開日（公表日）： 1999年05月11日
要約：
【要約】【課題】 排気ガス還流装置において、パティキュレートの捕集効率の低下を防止して排気ガス還流による窒素酸化物の低減効率の向上を図る。【解決手段】 排気ガスを吸気管13に還流させる排気ガス還流管16に触媒付トラップ17とEGRクーラ18とを設け、この触媒付トラップ17とEGRクーラ18との間の排気ガス還流管16から分岐して排気管15に合流するバイパス管19を設けると共に、排気ガスをバイパス管19への流れとEGRクーラ18への流れとに切り換える制御弁19,20を設け、コントロールユニット22は排気ガス温度が400°C以上でこの制御弁19,20をバイパス管19に切り換えて触媒付トラップ17に堆積したパティキュレートを燃焼させる。
請求項（抜粋）：
排気ガスを吸気通路に還流させる排気ガス還流通路と、該排気ガス還流通路の上流側に設けられて排気ガス中のパティキュレートを捕集する触媒付トラップと、前記排気ガス還流通路に設けられて排気ガスを冷却するEGRクーラと、前記触媒付トラップと前記EGRクーラとの間の前記排気ガス還流通路から分岐して排気通路に合流するバイパス通路と、排気ガスを該バイパス通路への流れと前記EGRクーラへの流れとに切り換える制御弁と、排気ガスがパティキュレートを燃焼させる再生温度時に前記制御弁を前記バイパス通路に切り換える制御手段とを具えたことを特徴とする排気ガス還流装置。
IPC (5件)：
F02M 25/07 580
, F02M 25/07
, F02M 25/07 550
, F01N 3/02 321
, F01N 3/02
F02M 25/07 580 D
, F02M 25/07 580 E
, F02M 25/07 550 G
, F01N 3/02 321 A
, F01N 3/02 321 H
