特許

J-GLOBAL ID：200903015648036860

非結晶性炭素の除去方法

発明者： 八木 貴郎 ,  室山 雅和 ,  齋藤 一郎
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 根本 恵司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-360767
公開番号（公開出願番号）：特開2002-167207
出願日： 2000年11月28日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：

【要約】【課題】 非結晶性炭素を除去する。【解決手段】 触媒金属上に結晶性炭素が生成された基板1を反応管2内に配置し、真空ポンプ3にて排気する。酸素をガス源4から反応管2に供給し、マイクロ波発振器5からのマイクロ波により混合ガスをプラズマ化する。結晶性炭素の生成時に基板1上に生成された非結晶性炭素をプラズマ化した酸素によりアッシングし、非結晶性炭素を選択的に除去する。

請求項（抜粋）：

結晶性炭素を生成し、生成後、酸素又は酸素混合ガスをプラズマ化し、プラズマ化した酸素又は混合ガスにより、前記結晶性炭素の生成時に生成された非結晶性炭素をアッシングすることを特徴とする非結晶性炭素の除去方法。

IPC (6件)：

C01B 31/02 ,  C01B 31/02 101 ,  C01B 31/06 ,  C30B 29/04 ,  C30B 33/12 ,  H01L 21/3065

FI (7件)：

C01B 31/02 ,  C01B 31/02 101 F ,  C01B 31/06 B ,  C30B 29/04 D ,  C30B 29/04 V ,  C30B 33/12 ,  H01L 21/302 H

Fターム (26件)：

4G046BA04 ,  4G046BB03 ,  4G046BC01 ,  4G046CA00 ,  4G046CB02 ,  4G046CB03 ,  4G046GA01 ,  4G046GA09 ,  4G046GB01 ,  4G077AA03 ,  4G077BA03 ,  4G077DB07 ,  4G077DB18 ,  4G077FG02 ,  4G077FH09 ,  4G077HA15 ,  5F004AA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BD01 ,  5F004DA01 ,  5F004DA02 ,  5F004DA03 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26