特許

J-GLOBAL ID：200903015658615486

ウェハ洗浄装置

発明者： 山▲崎▼ 進也
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 稲垣 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-028824
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228379
出願日： 1999年02月05日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】 整列配置したウェハ間に洗浄用あるいはリンス用の洗浄液や純水が良好に流入し、洗浄槽あるいはリンス槽に供給する洗浄液や純水の流量を多くしなくても、十分な洗浄効果あるいはリンス効果を得ることができるウェハ洗浄装置を提供する。【解決手段】 洗浄槽又はリンス槽2内にウェハ保治具4を設置する。ウェハ保治具4としては、周面に複数の略楕円軌道状の斜め溝8が傾斜方向を交互に変えて所定間隔毎に形成されてなる複数の回転可能な円柱状の支持棒6を有し、斜め溝8にウェハWの周縁を係合させた状態で複数の支持棒6の間に複数のウェハWを垂直に支持して整列配置させるとともに、この状態で支持棒6を回転させたときに、ウェハW間の間隔を変化させながらウェハWを周方向に回転させるものを用いる。

請求項（抜粋）：

洗浄槽又はリンス槽と、前記洗浄槽又はリンス槽内に設置されたウェハ保治具とを具備し、前記ウェハ保治具は、周面に複数の略楕円軌道状の斜め溝が傾斜方向を交互に変えて所定間隔毎に形成されてなる複数の回転可能な円柱状の支持棒を有し、前記斜め溝にウェハの周縁を係合させた状態で前記複数の支持棒の間に複数のウェハを垂直に支持して整列配置させるとともに、この状態で支持棒を回転させたときに、ウェハ間の間隔を変化させながらウェハを周方向に回転させるものであることを特徴とするウェハ洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/04 ,  B08B 11/02

FI (4件)：

H01L 21/304 642 A ,  H01L 21/304 642 D ,  B08B 3/04 A ,  B08B 11/02

Fターム (18件)：

3B116AA03 ,  3B116AB33 ,  3B116AB37 ,  3B116AB44 ,  3B116BB02 ,  3B116BB03 ,  3B116BB87 ,  3B116CC01 ,  3B201AA03 ,  3B201AB33 ,  3B201AB39 ,  3B201AB44 ,  3B201BB02 ,  3B201BB03 ,  3B201BB87 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201CC01