特許
J-GLOBAL ID：200903015659256323
液晶表示素子用カラ-フィルタの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-037988
公開番号（公開出願番号）：特開平5-232313
出願日： 1992年02月25日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：
【要約】【構成】この本発明は、(1) 透明基板に露光部が可溶化する感光性樹脂層とインキ反発性シリコ-ンゴム層とを積層する、(2) 遮光層のパタ-ンマスクを介して露光、現像して遮光層パタ-ンをシリコ-ンゴム層の除去された凹部として形成する、(3) 形成された凹部に黒色インキなどを充填する。(4) 全面にインキ反発性シリコ-ンゴム組成物の液を塗布して、遮光層上にシリコ-ンゴム層を再生する、(5) 全面に露光して、(2) の工程で未露光部であった感光性樹脂を可溶化させて現像液で処理して除去する、(6) 表層にインキ反発性のシリコ-ンゴム層を有する遮光層パタ-ンを仕切り壁として、開口部にインクジェット法で着色インキを噴射して着色して、カラ-フィルタを製造する方法である。【効果】簡便かつ高精度の遮光部位の形成と画素間の混色などの欠点のない制作工程が短縮されたカラ-フィルタの製造方法が提供できる。
請求項（抜粋）：
光透過性基材表面に、露光部分が可溶化する感光性樹脂層およびシリコ-ンゴム層をこの順に積層した後、フォトリソグラフィ法により露光・現像を行うことにより露光部分のシリコ-ンゴム層とその下の感光性樹脂層とを共に除去してパタ-ンを形成し、次いで遮光材料を該パタ-ン部分に塗布した後、全面にシリコ-ンゴム溶液を塗布して該遮光材料表面にシリコ-ンゴム層を再生した後、全面に露光してパタ-ン露光時に非露光部であった残留感光性樹脂層を可溶化してその上のシリコ-ンゴム層と共に除去して、表層がインキ反発性シリコ-ンゴム層を有する遮光材料の仕切り壁に囲まれた開口部を形成し、この開口部にインクジェット法で赤、緑、青の三原色の着色を行うことを特徴とする液晶表示素子用カラ-フィルタの製造方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
