特許
J-GLOBAL ID：200903015667529452
デブリ低減システム及びリソグラフィ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-328130
公開番号（公開出願番号）：特開2008-166772
出願日： 2007年12月20日
公開日（公表日）： 2008年07月17日
要約：
【課題】デブリを生成する放射源から出た汚染材料をトラップするための回転フォイルトラップによるデブリ低減効果を向上させることができるデブリ低減システムを提供する。【解決手段】デブリ低減システムは、軸を中心に回転するように構成されたコンタミバリアと、前記放射源からの荷電デブリを偏向させるための磁場を提供するように構成された磁石構造とを備える。磁石構造はコンタミバリアを通して磁場を設けるように構成されている。磁場は、コンタミバリアを通過する際に、コンタミバリアの回転軸とほぼ一致する面に沿って配向される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
デブリを生成する放射源から出た汚染材料をトラップするためのデブリ低減システムであって、
軸を中心に回転するように構成されたコンタミバリア、及び
前記放射源からの荷電デブリを偏向させるための磁場を提供するように構成された磁石構造(magnet structure)であって、前記コンタミバリアを通して磁場を提供するように構成されており、前記磁場が、前記コンタミバリアを通過する際に、前記コンタミバリアの回転軸とほぼ一致する面に沿って配向される、磁石構造、
を備えるデブリ低減システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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