特許
J-GLOBAL ID：200903015668200047
真空処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-200154
公開番号（公開出願番号）：特開平6-047269
出願日： 1992年07月06日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：
【要約】【目的】 日常運転時の事故を予知して、未然に防止することのできる真空処理装置を提供する。【構成】 真空製造装置1と該装置に連通して設けた真空ポンプ2と該真空ポンプで吸引される排気ガスを処理する乾式除害装置3からなる真空処理装置において、前記乾式除害装置の入口配管7に大気混入センサ12を配備したものであり、前記大気混入センサ12は、酸素濃度計又は水分計であり、また前記装置には、大気混入センサの出力信号により作動する真空製造装置へのプロセスガス16供給停止機構、吸引ガスへの希釈用N2 ガス流入機構17、18及び排気ガスの乾式除害装置バイパス弁開放機構5を備えるのがよい。
請求項（抜粋）：
真空製造装置と該装置に連通して設けた真空ポンプと該真空ポンプで吸引される排気ガスを処理する乾式除害装置からなる真空処理装置において、前記乾式除害装置の入口配管及び/又は出口配管に大気混入センサを配備したことを特徴とする真空処理装置。
IPC (3件)：
B01J 3/02
, B01D 53/34
, H01L 21/302
