特許
J-GLOBAL ID：200903015673231384
露光装置および露光方法ならびに記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大菅 義之
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999000479
公開番号（公開出願番号）：WO1999-040486
出願日： 1999年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月12日
要約：
【要約】表示装置(22)にショットマップを表示させ、オペレータはそのショットマップ上で評価点を指定する。制御装置(21)は指定された評価点に対応する投影面上(プレート上)の位置座標を算出して表示装置(22)に出力する。プレート(6)上に露光されるパターンに重なった部分があり、その重なった部分において評価点が指定された場合、制御装置(21)は対応するパターン候補を出力し、オペレータはその中から希望するパターンを選択することができる。さらに、ショットマップ上で1点を指定すれば、自動的にパターン境界を挟んだ2点が評価点として示されるような機能も備えている。これにより、評価点の指定及びそのプレート面上での位置を正確に短時間で求め、装置の作業効率を向上させる。
請求項（抜粋）：
レチクル上のパターンを基板の露光領域に露光する露光装置であって、前記露光領域を表すショットマップを表示する表示手段と、前記ショットマップ上の任意の位置を指定する指定手段と、前記指定された点に対応する前記レチクルの位置に関する情報を出力する出力手段とを備えたことを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 7/22 Z
, H01L 21/30 512
