特許

J-GLOBAL ID：200903015681360614

ブラックマトリクスが形成された透明基板の製造方法

発明者： 畠井 宗宏
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-228501
公開番号（公開出願番号）：特開平10-068811
出願日： 1996年08月29日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 解像度が高く、かつ遮光性の高いブラックマトリクスが形成された透明基板を簡便に提供する。【解決手段】 ブラックマトリクスが形成された透明基板の製造方法において、(1)透明基板上のブラックマトリクスを形成する領域にレーザー光を照射して、被照射部分を蒸散させて溝を形成する工程、(2)形成された溝に、顔料を分散させた遮光性組成物を充填する工程、(3)溝以外の領域、及び溝上の透明基板面からはみ出した部分の遮光性組成物を取り除く工程、及び(4)溝中の遮光性組成物を硬化する工程を含むことを特徴とするブラックマトリクスが形成された透明基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

ブラックマトリクスが形成された透明基板の製造方法において、(1)透明基板上のブラックマトリクスを形成する領域にレーザー光を照射して、被照射部分を蒸散させて溝を形成する工程、(2)形成された溝に、顔料を分散させた遮光性組成物を充填する工程、(3)溝以外の領域、及び溝上の透明基板面からはみ出した部分の遮光性組成物を取り除く工程、及び(4)溝中の遮光性組成物を硬化する工程を含むことを特徴とするブラックマトリクスが形成された透明基板の製造方法。

IPC (7件)：

G02B 5/20 101 ,  B05D 5/06 104 ,  B05D 5/06 ,  G02B 5/00 ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 ,  G03F 7/20 505

FI (7件)：

G02B 5/20 101 ,  B05D 5/06 104 B ,  B05D 5/06 104 D ,  G02B 5/00 B ,  G02F 1/1333 500 ,  G02F 1/1335 ,  G03F 7/20 505