特許

J-GLOBAL ID：200903015684858150

露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 井上 充 ,  山崎 俊洋
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-307487
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144596
出願日： 1996年11月05日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】【課題】 原版ステージおよび基板ステージの走査露光時における移動精度をより向上させる。【解決手段】 原版を移動させる原版ステージ1および基板を移動させる基板ステージ80の位置をそれぞれ原版側レーザ干渉計31、32、33、34および基板側レーザ干渉計35、36、37、38を用いて計測し、これらの計測値に基づいて制御しつつ原版ステージと基板ステージとを走査方向に移動させながら、原版のパターンを基板上に走査露光する際に、原版側レーザ干渉計および基板側レーザ干渉計による各ステージ位置の計測を、同一のレーザヘッド39、40からの光を用いて行う。原版側レーザ干渉計および基板側レーザ干渉計がそれぞれ、走査方向であるY方向のレーザ干渉計およびY方向に直角なX方向のレーザ干渉計を含むときは、原版側および基板側のY方向レーザ干渉計31、32、35、36による計測は、同一のY方向用レーザヘッド39からの光を用いて行い、原版側および基板側のX方向レーザ干渉計33、34、37、38による計測は、同一のX方向用レーザヘッド40からの光を用いて行う。

請求項（抜粋）：

原版を移動させる原版ステージと、基板を移動させる基板ステージと、原版ステージおよび基板ステージの位置をそれぞれ計測するための原版側レーザ干渉計および基板側レーザ干渉計とを備え、これらのレーザ干渉計による計測値に基づいて原板ステージと基板ステージとを走査方向に移動させながら、原版のパターンを基板上に露光する走査式の露光装置において、原版側レーザ干渉計および基板側レーザ干渉計は、同一のレーザヘッドからの光を用いるものであることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 516 B