特許

J-GLOBAL ID：200903015693530957

X線透過窓、X線吸収微細構造測定用セルおよび反応システム

発明者： 朝倉 清高 ,  河合 寿秀 ,  阪東 恭子 ,  角谷 均 ,  田旺 帝
出願人/特許権者： 国立大学法人 北海道大学 ,  独立行政法人産業技術総合研究所 ,  住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 森 幸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-356564
公開番号（公開出願番号）：特開2006-162506
出願日： 2004年12月09日
公開日（公表日）： 2006年06月22日
要約：

【課題】 高温高圧に耐えることができ、毒性がなく安全で、酸化雰囲気で酸化されにくく、回折X線の影響が少なくXAFS測定を高い信頼性で行うことができ、X線透過性に優れ、平坦な形状とすることができ、しかも安価なX線透過窓を用いた高性能なX線吸収微細構造測定用セルを提供する。 【解決手段】 X線吸収微細構造測定用セルのX線透過窓2、4に、立方晶窒化ホウ素を主成分とし、X線吸収微細構造測定に支障を生じる不純物を実質的に含まない多結晶体からなるものを用いる。この多結晶体は、最も好ましくは、立方晶窒化ホウ素を主成分とし、窒化ホウ素以外の不純物を含まない多結晶体である。X線透過窓2、4に、ポリベンズイミダゾールからなるものを用いてもよい。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

立方晶窒化ホウ素を主成分とし、X線吸収微細構造測定に支障を生じる不純物を実質的に含まない多結晶体からなるX線透過窓を用いたことを特徴とするX線吸収微細構造測定用セル。

IPC (3件)：

G01N 23/06 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/02

FI (3件)：

G01N23/06 ,  G21K5/00 W ,  G21K5/02 X

Fターム (8件)：

2G001AA01 ,  2G001BA13 ,  2G001CA01 ,  2G001EA02 ,  2G001MA04 ,  2G001NA17 ,  2G001PA07 ,  2G001RA02

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平3-054440