特許

J-GLOBAL ID：200903015708493255

トンネル構築方法

発明者： 高橋 義幸
出願人/特許権者： 三井建設株式会社
代理人 (1件)： 相田 伸二 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-349658
公開番号（公開出願番号）：特開平7-197771
出願日： 1993年12月29日
公開日（公表日）： 1995年08月01日
要約：

【要約】【目的】縦長大断面トンネルの構築【構成】一対のパイロット坑31、31を先進させ、各パイロット坑31を利用して、土被り地盤改良と土留壁7、7の構築を行い、該土留壁7、7間に支保地盤22を形成する。パイロット坑31、31間にルーフ坑32を掘削形成し、該ルーフ坑32に設置したアーチセグメント11と上スラブ12によって、支保地盤22の上側の地盤2を支持しながら、ルーフ坑32下を、上半部33aを掘り下げてから地下水位WL以下を地盤改良し、その後下半部33bを掘り下げる形で掘削して、トンネル空間3を形成する。土留壁7、7間にコンクリート躯体13を、上スラブ12の下側に接続するよう打設し、これによって構造躯体10を、上下に並ぶ供用領域30、30を形成した形で構築する。

請求項（抜粋）：

左右方向に所定の間隔をなす形の一対のパイロット坑を地盤中に先進させ、前記一対のパイロット坑を利用して、該各々のパイロット坑の下側の地盤中に土留壁を構築して、該左右の土留壁間に支保地盤を形成しておき、前記一対のパイロット坑間の地盤を掘削してルーフ坑を、前記支保地盤の上側に位置する形で形成し、該掘削形成されたルーフ坑に地盤支持部材を設置し、前記左右の土留壁と前記地盤支持部材により地盤を支持しながら、前記ルーフ坑より下側の前記支保地盤を掘り下げていく形で掘削することによって、トンネル空間を形成し、該形成されたトンネル空間にトンネル躯体を構築する、トンネル構築方法。