特許
J-GLOBAL ID：200903015708703543
Rh、CoまたはIr錯体の存在下でのアクリル(メタクリル)、ビニル、ビニリデンおよびジエンモノマーの制御されたラジカル(共)重合の方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-172658
公開番号（公開出願番号）：特開平10-139805
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 工業的に適用可能な合成条件でイオンまたは配位重合と同等の制御が可能な、一定長さの、純粋なブロックまたはランダムホモポリマーまたはコポリマーの合成を可能にするラジカル重合の提供。【解決手段】 バルク、溶液、乳濁液または懸濁液中で、0°C程度に低くてもよい温度で、開始剤系および少なくとも一つの、式(1)で表される金属錯体からなる触媒の存在下で、活性化剤を加えずに、アクリル(メタクリル)、ビニル、ビニリデン、ジエンモノマーの制御されたラジカル重合の方法。ここで、MはRh、CoまたはIrを表し;Aはハロゲンまたは擬ハロゲンを表し;基Lは、リガンドを表し、シクロオクタジエン、PRR'R"、P(OR)(OR')(OR")、NRR'R"、ORR'、SRR'、SeRR'、AsRR'R"、SbRR'R"で、R、R'およびR"が芳香族基を表すものの中から独立に選択され、これらのリガンドのうち少なくとも二つが、1またはそれ以上の2価のラジカルによって結合していてもよく:1≦a≦3;n、1≦n≦5である。
請求項（抜粋）：
少なくとも一つのアクリル(メタクリル)および/またはビニルおよび/またはビニリデンおよび/またはジエンモノマーが、バルク、溶液、乳濁液または懸濁液中で、0°C程度に低くてもよい温度で、下記のものからなる開始剤系:すなわち、- 少なくとも一つのペルオキシ以外のラジカル発生剤化合物;および- 少なくとも一つの、下記の式(I)で表される金属錯体からなる触媒:MAa(L) n (I)ここで、MはRh、CoまたはIrを表す;Aはハロゲンまたは擬ハロゲンを表す;基Lは、同一でも異なっていても良く、それぞれがキラルリガンドでも良いリガンドを表し、シクロオクタジエン、PRR'R"、P(OR)(OR')(OR")、NRR'R"、ORR'、SRR'、SeRR'、AsRR'R"、SbRR'R"で、それぞれのラジカルR、R'およびR"が、任意に置換されていてもよいC1-C14アルキル基または任意に置換されていてもよい芳香族基を独立に表すものの中から選択され、これらのリガンドのうち少なくとも二つが、1またはそれ以上の2価のラジカルによって結合していてもよい;aは整数で、1≦a≦3;nは整数で、1≦n≦5であるものの存在下で、活性化剤を加えずに、重合または共重合することを特徴とする、アクリル(メタクリル)および/またはビニルおよび/またはビニリデンおよび/またはジエンモノマーの制御されたラジカル重合または共重合の方法。
IPC (6件)：
C08F 4/60
, C08F 12/08
, C08F 14/00
, C08F 18/08
, C08F 20/10
, C08F297/06
C08F 4/60
, C08F 12/08
, C08F 14/00
, C08F 18/08
, C08F 20/10
, C08F297/06
