特許
J-GLOBAL ID：200903015710974112
ソルダーレジストの形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
押田 良輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-239371
公開番号（公開出願番号）：特開2004-079844
出願日： 2002年08月20日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】ソルダーレジストのパターンに依存せず、レジスト表面への異物の付着を効果的に防止できる、簡単かつ汎用性に富むソルダーレジストの形成方法を提供する。【解決手段】基材表面にレジスト層を設け、該レジスト層を乾燥してレジスト層内の溶媒成分を揮発させた後、該レジスト層の上にソルダーレジストパターンを設けて露光し、現像後、加熱処理してソルダーレジストを形成する方法において、前記レジスト層を乾燥してレジスト層内の溶媒成分を揮発させた後、該レジスト層表面に光透過性の保護フィルムをラミネートし、該保護フィルムの上にソルダーレジストパターンを設けて露光した後、保護フィルムを除去し、現像することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基材表面にレジスト層を設け、該レジスト層を乾燥してレジスト層内の溶媒成分を揮発させた後、該レジスト層の上にソルダーレジストパターンを設けて露光し、現像後、加熱処理してソルダーレジストを形成する方法において、前記レジスト層を乾燥してレジスト層内の溶媒成分を揮発させた後、該レジスト層表面に光透過性の保護フィルムをラミネートし、該保護フィルムの上にソルダーレジストパターンを設けて露光した後、保護フィルムを除去し、現像することを特徴とするソルダーレジストの形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
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