ポジ型レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-101684
公開番号（公開出願番号）：特開平5-127376
出願日： 1992年03月27日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】感度、残膜率、解像度などの諸特性のバランスに優れたポジ型レジスト組成物を提供することにある。また、本発明の目的は、特に1μm以下の微細加工において、露光量に対する寸法変化の小さい、いわゆる露光ラティチュードの優れたポジ型レジストを提供すること。【構成】 (a)アルカリ可溶性フェノール樹脂100重量部、(b)キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤1〜100重量部、(c)ヒドロキシ化合物の水酸基(-OH)の少なくとも一部がスルホン酸エステル化(-OSO2R)、カルボン酸エステル化(-OCOR)、およびエーテル化(-O-R)からなる群より選ばれる少なくとも1種の変換反応により修飾された構造の化合物1〜100重量部(式中、Rは、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、置換アリール基、アリールアルキル基、または置換アリールアルキル基である。)、および(d)前記成分を溶解するに充分な量の溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ可溶性フェノール樹脂100重量部、(b)キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤1〜100重量部、(c)ヒドロキシ化合物の水酸基(-OH)の少なくとも一部がスルホン酸エステル化(-OSO2R)、カルボン酸エステル化(-OCOR)、およびエーテル化(-O-R)からなる群より選ばれる少なくとも1種の変換反応により修飾された構造の化合物1〜100重量部(式中、Rは、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール基、置換アリール基、アリールアルキル基、または置換アリールアルキル基である。)、および(d)前記成分を溶解するに充分な量の溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (22件)

特開昭64-044439
特開平3-259149
特開平3-273251

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