特許

J-GLOBAL ID：200903015734909664

液晶表示素子用高屈折率絶縁被膜形成用塗布液

発明者： 野上 達哉 ,  酒井 里枝
出願人/特許権者： 日産化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-190773
公開番号（公開出願番号）：特開平6-033000
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：

【要約】【構成】 下記(a)〜(f)より成る、液晶表示素子用高屈折率被膜形成用塗布液。(a)Si(OR)4の加水分解物(b)R1Si(OR2)3の加水分解物(c)Ti(OR4)4(d)Bi,Ce,Y,Zrの金属の塩の少なくとも1種以上(e)析出防止剤(f)有機溶媒【効果】 本発明の塗布液は、撥水性の高いトリアルコキシシランを含むにも拘らず、塗布性及び機械的強度に優れ、屈折率が1.6以上の絶縁被膜を形成可能である。

請求項（抜粋）：

下記(a)〜(d)の各物質を含有し、且つ析出防止剤が有機溶媒に溶解されてなる塗布液において、(a)〜(d)の各物質がモル比で(a)が0〜0.3、(b)が0.3〜0.6、(c)が0〜0.2、(d)が0.2〜0.5の範囲にある液晶表示素子用高屈折率絶縁被膜形成用塗布液。(a) 下記一般式〔1〕で示されるテトラアルコキシシランの加水分解物Si(OR)4 〔1〕(Rは炭素数1〜5のアルキル基を表す。)(b) 下記一般式〔2〕で表されるトリアルコキシシランと加水分解物R1Si(OR2)3 〔2〕(R1 は置換基を有する事もあるアルキル基、アルケニル基、アリール基を表し、R2 は炭素数1〜5のアルキル基を表す。)(c) 下記一般式〔3〕で示されるテトラアルコキシチタンTi(OR4)4 〔3〕(R4 は炭素数1〜5のアルキル基を表す。)(d) Bi、Ce、Y、Zrの金属の金属塩の少なくとも1種以上

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭63-146969
  
• 特開昭63-130674
  
• 特開平2-258646
  
• 特開平4-097103
  
• 特開平2-279778