特許
J-GLOBAL ID：200903015738143445
複製防止光学素子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-265581
公開番号（公開出願番号）：特開2007-079005
出願日： 2005年09月13日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：
【課題】 近年、SWSを用いた反射防止素子が提案されている。プラスチックモールドなどでは型に微細構造を作り転写する事で、形状と反射防止機能とを同時に形成できるメリットがある。この型の作成に関しては技術的な課題が多く、製造が大変困難である。しかし、それから成型した部品をもとに公知の技術である電鋳を用いることで、簡単に型の複製が作られる心配があった。他の光学系に部品として流用される事を防ぐ法的手立ては何もなかった。光学性能に影響を与えず、型の流用を防ぐことを目的とする。型を作る技術以上の手間をかけないと流用は困難である。【解決手段】 表面に使用波長以下の周期の微細構造(SWS)を施した光学系において、光学有効部内に波長以下のピッチからなるマークを配置した事を特徴とする複製防止光学素子をもちいる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
表面に使用波長以下の周期の微細構造(SWS)を施した光学系において、光学有効部内に波長以下のピッチからなるマークを配置した事を特徴とする複製防止光学素子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (3件)：
2K009AA01
, 2K009AA12
, 2K009DD15
