特許

J-GLOBAL ID：200903015752273424

感放射線組成物及びパタン形成方法及び半導体装置の製造方法

発明者： 横山 義之 ,  服部 孝司
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-393107
公開番号（公開出願番号）：特開2003-195502
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 ArFエキシマレ-ザの波長193nmを含む遠紫外線での露光に適していて,現像液の浸透による膨潤や,パタンの線間にレジスト膜が残るといった解像度劣化の原因を取り除いた高解像度のパタン形成が可能なネガ型の感放射線組成物を提供する。【解決手段】 γ-ヒドロキシカルボン酸をエステル部に持つアクリル酸エステルの重合体(例えば、式(1)で示される繰り返し単位を持つ重合体)と,酸発生剤とを含有してなる感放射線組成物とする。

請求項（抜粋）：

γ-ヒドロキシカルボン酸をエステル部に持つアクリル酸エステルの重合体と,酸発生剤とを含有することを特徴とする感放射線組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/038 601 ,  C08F 20/28 ,  C08F220/10 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/038 601 ,  C08F 20/28 ,  C08F220/10 ,  G03F 7/039 601 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (49件)：

2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BD43 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025DA40 ,  2H025FA04 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA39 ,  2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA12 ,  2H096FA01 ,  2H096GA09 ,  2H096HA23 ,  2H096HA30 ,  2H097CA13 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL29P ,  4J100BA03H ,  4J100BA03P ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA16H ,  4J100BB18P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA39 ,  4J100FA03 ,  4J100HA01 ,  4J100HA61 ,  4J100HC36 ,  4J100JA37