ジスアゾ顔料の製造法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-191003
公開番号（公開出願番号）：特開平5-009399
出願日： 1991年07月05日
公開日（公表日）： 1993年01月19日
要約：

【要約】【目的】隠蔽力に優れたジスアゾ顔料の製造方法を提供する。【構成】ベンジジン類のテトラゾ溶液とアセトアセトアニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせたジスアゾ顔料スラリーを加熱処理するジスアゾ顔料の製造法において、カップリング終了後のあるいはカップリング終了後アルカリ領域に調整した顔料スラリーからスラリー中に含まれる水溶性不純物を除去した後リスラリーしたものを上記加熱処理することを特徴とするジスアゾ顔料の製造方法。

請求項（抜粋）：

ベンジジン類のテトラゾ溶液とアセトアセトアニリド類を含むカップラー液とをカップリングさせたジスアゾ顔料スラリーを加熱処理するジスアゾ顔料の製造法において、カップリング終了後のあるいはカップリング終了後アルカリ領域に調整した顔料スラリーからスラリー中に含まれる水溶性不純物を除去した後リスラリーしたものを上記加熱処理することを特徴とするジスアゾ顔料の製造方法。

IPC (4件)：

C09B 67/20 , C09B 41/00 , C09B 67/00 , C09D 11/02 PTF

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭50-052124
特開昭50-052126

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