特許

J-GLOBAL ID：200903015769317972

非水電解液用電解質の製造方法

発明者： 小林 幸哉 ,  清家 英雄
出願人/特許権者： 三洋化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-086301
公開番号（公開出願番号）：特開2000-285960
出願日： 1999年03月29日
公開日（公表日）： 2000年10月13日
要約：

【要約】【課題】 着色等の変質や不純物等の混入がなく、極めて低い水分レベルが得られる非水電解液用電解質の製造方法。【解決手段】 下記一般式(1)で示される塩(a)と、Q+X- (1)[式中、Q+は無機または有機カチオンであり、X-はpKa≧0なる酸のアニオンを表す。]無水フッ化水素(b)と、三フッ化ホウ素および/または三フッ化ホウ素の錯体(c)を無水条件下で反応させて、四フッ化ホウ酸塩を製造することを特徴とする電解質の製造方法。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で示される塩(a)と、Q+X- (1)[式中、Q+は無機または有機カチオンであり、X-はpKa≧0なる酸のアニオンを表す。]無水フッ化水素(b)と、三フッ化ホウ素および/または三フッ化ホウ素の錯体(c)を無水条件下で反応させて、四フッ化ホウ酸塩を製造することを特徴とする電解質の製造方法。

IPC (6件)：

H01M 10/40 ,  C07C209/00 ,  C07C211/63 ,  C07D233/06 ,  H01G 9/038 ,  H01M 6/16

FI (6件)：

H01M 10/40 A ,  C07C209/00 ,  C07C211/63 ,  C07D233/06 ,  H01M 6/16 A ,  H01G 9/00 301 D

Fターム (16件)：

4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006AC52 ,  4H006BA32 ,  4H006BA51 ,  4H006BU50 ,  5H024BB11 ,  5H024BB18 ,  5H024DD17 ,  5H024EE05 ,  5H024FF11 ,  5H029AJ14 ,  5H029AM01 ,  5H029CJ14 ,  5H029DJ09