特許
J-GLOBAL ID：200903015791872050
紫外線吸収性ポリメチルシルセスキオキサン粉体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
津国 肇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-010418
公開番号（公開出願番号）：特開平7-216096
出願日： 1994年02月01日
公開日（公表日）： 1995年08月15日
要約：
【要約】【構成】 平均粒径が0.1〜30μm の、表面にシラノール基を有するポリメチルシルセスキオキサン粉体に、チタン酸エステルを有機溶媒中で反応させ、加水分解させ、乾燥することを特徴とする紫外線吸収性ポリメチルシルセスキオキサン粉体の製造方法。【効果】 紫外線を吸収し、かつ可視光を透過し、また優れた流動性と滑らかな感触を有する複合ポリメチルシルセスキオキサン粉体が得られる。
請求項（抜粋）：
(1)(A)平均粒径が0.1〜30μm の、表面にシラノール基を有するポリメチルシルセスキオキサン粉体に、(B)一般式:Ti(OR)4(式中、Rは炭素数1〜8のアルキル基を表す)で示されるチタン酸エステルを、(C)有機溶媒中で反応させ;(2)反応生成物を加水分解させ;(3)得られた加水分解生成物を乾燥することを特徴とする紫外線吸収性ポリメチルシルセスキオキサン粉体の製造方法。
IPC (5件)：
C08J 3/12 CFH
, C08G 77/398 NUF
, C08K 5/05
, C08L 83/06 LRV
, C08L 83:06
