特許
J-GLOBAL ID:200903015793067634

レーザプラズマX線源

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-092829
公開番号(公開出願番号):特開平5-290993
出願日: 1992年04月13日
公開日(公表日): 1993年11月05日
要約:
【要約】【目的】 レーザプラズマX線源において、標的物質の交換回数を減らして長時間の使用を可能にする。【構成】 標的物質1を帯状に形成してこれを任意の方向に巻き取ることが可能な巻取り手段2、3、4、5と、標的物質1を巻取り方向と直交に移動させる移動手段7とを設けた。そして、レーザ光8の照射位置に対して1つの標的物質1を複数回往復移動させてX線を発生させるようにした。
請求項(抜粋):
レーザ光を標的物質上に照射して該標的物質をプラズマ化し、該プラズマからX線を発生させるレーザプラズマX線源において、帯状に形成された標的物質、該標的物質を任意の方向に巻き取ることができる巻取り手段、および前記標的物質を該標的面内において巻取り方向とほぼ直交に移動させる移動手段とを備えたことを特徴とするレーザプラズマX線源。
IPC (2件):
H05G 2/00 ,  G21K 1/00
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平3-263893
  • 特開平3-081458
  • 特開昭62-145790
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