特許
J-GLOBAL ID:200903015825744536

半導体分布帰還型レーザ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井出 直孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-291591
公開番号(公開出願番号):特開平5-129719
出願日: 1991年11月07日
公開日(公表日): 1993年05月25日
要約:
【要約】【目的】 利得結合による光分布帰還を利用した新しい構造の半導体分布帰還型レーザ装置を実現する。【構成】 活性層9の近傍に回折格子の周期で歪超格子を設けることにより、活性層9のバンドギャップを周期的に変調する。
請求項(抜粋):
誘導放出光を発生する活性層と、この活性層の発生した誘導放出光に光分布帰還を施す帰還手段とを半導体レーザ導波路内に備えた半導体分布帰還型レーザ装置において、前記帰還手段は、前記半導体レーザ導波路を構成する層の少なくとも一つの層の結晶格子定数がレーザ光軸方向に沿って周期的に変化する構造として形成されたことを特徴とする半導体分布帰還型レーザ装置。

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