水素リッチガスの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：江崎光史 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-189590
公開番号（公開出願番号）：特開平9-118501
出願日： 1996年07月18日
公開日（公表日）： 1997年05月06日
要約：

【要約】【課題】ジメチルエーテルおよびスチームからなるフィードストックから水素リッチガスを製造する方法を提供する。【解決手段】固定床反応器中に物理的な混合物として配置された固体酸からなる群から選択されたエーテル水和触媒およびメタノール分解触媒の存在下に、ジメチルエーテルをスチームと反応させる。

請求項（抜粋）：

ジメチルエーテルおよびスチームからなるフィードストックから水素リッチガスを製造する方法において、固定床反応器中に物理的な混合物として配置された固体酸類からなる群から選択されたエーテル水和触媒およびメタノール分解触媒の存在下に、ジメチルエーテルをスチームと反応させることを特徴とする上記方法。

IPC (3件)：

C01B 3/40 , B01J 29/14 , B01J 29/46

FI (3件)：

C01B 3/40 , B01J 29/14 M , B01J 29/46 M

引用特許：

出願人引用 (2件)

審査官引用 (1件)

引用文献：

出願人引用 (1件)

審査官引用 (1件)

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