特許
J-GLOBAL ID：200903015836376466
スパッタリング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
波多野 久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-053609
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255846
出願日： 1992年03月12日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】【目的】本発明の目的は、マスク治具類に堆積したスパッタ被膜が剥離して基板表面に付着することを防止し、長期間に亘り、良好で安定したスパッタ操作が可能なスパッタリング装置を提供することにある。【構成】本発明に係るスパッタリング装置は、基板4の表面の所定部位のみにスパッタ粒子6を蒸着させるために上記所定部位以外の部位を遮蔽するマスク治具9a,9bを基板4の表面に配置した状態で、対向するスパッタリングターゲット2から放出されたスパッタ粒子6を基板4の表面に蒸着させるスパッタリング装置において、上記マスク治具9a,9bを窒化けい素(Si3 N4 )およびサイアロン(Si-Al-O-N)から選択された少なくとも1種から形成したことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
基板表面の所定部位のみにスパッタ粒子を蒸着させるために上記所定部位以外の部位を遮蔽するマスク治具を基板表面に配置した状態で、対向するスパッタリングターゲットから放出されたスパッタ粒子を基板表面に蒸着させるスパッタリング装置において、上記マスク治具を窒化けい素(Si3 N4)およびサイアロン(Si-Al-O-N)から選択された少なくとも1種から形成したことを特徴とするスパッタリング装置。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, C23C 14/04
, H01L 21/203
