特許

J-GLOBAL ID：200903015846978731

電子ビーム照射方法及び電子ビーム照射装置

発明者： 井口 征夫 ,  鈴木 一弘 ,  川浪 雅明 ,  細野 和秀
出願人/特許権者： 川崎製鉄株式会社 ,  日本電気株式会社
代理人 (1件)： 杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-286334
公開番号（公開出願番号）：特開平5-128992
出願日： 1991年10月31日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【構成】 基板に対向する電子銃より該基板に向けて射出する電子ビームを集束し、かつ基板の幅方向に偏向可能にして、この電子ビームを基板の表面へ該基板の幅方向に沿って連続又は断続的に照射して該基板の表面改質を行うにあたり、上記電子ビームの焦点を、電子ビームが基板表面に垂直に入射する場合における該基板表面よりも遠くに位置させて照射する【効果】 板幅方向中央部において電子ビーム強度は弱くなり、代わって両端部が強くなるため、板幅方向にわたって均一な電子ビーム照射が簡便な手法で可能になる。

請求項（抜粋）：

基板に対向する電子銃より該基板に向けて射出する電子ビームを集束し、かつ基板の幅方向に偏向可能にして、この電子ビームを基板の表面へ該基板の幅方向に沿って連続又は断続的に照射して該基板の表面改質を行うにあたり、上記電子ビームの焦点を、電子ビームが基板表面に垂直に入射する場合における該基板表面よりも遠くに位置させて照射することを特徴とする電子ビーム照射方法。

IPC (6件)：

H01J 37/30 ,  B23K 15/00 503 ,  C22B 9/22 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/21 ,  H01L 21/263