特許
J-GLOBAL ID：200903015853341153
反射防止膜及び表示装置並びに成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-334970
公開番号（公開出願番号）：特開2000-241605
出願日： 1999年11月25日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：
【要約】【課題】 密着性に優れ、透過率を調整でき、かつ、光学特性にも優れている。【解決手段】 基板の一主面上に、ケイ素、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物のいずれかからなる接着層と、金属窒化物を含有する第1の光学薄膜と、屈折率が1.8以上である第2の光学薄膜と、屈折率が1.35〜1.7の範囲である第3の光学薄膜とが、この順に積層形成されてなる。
請求項（抜粋）：
基板の一主面上に、ケイ素、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物のいずれかからなる接着層と、金属窒化物を含有する第1の光学薄膜と、屈折率が1.8以上である第2の光学薄膜と、屈折率が1.35〜1.7の範囲である第3の光学薄膜とが、積層形成されてなることを特徴とする反射防止膜。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 1/10 A
, C03C 17/34 Z
