特許

J-GLOBAL ID：200903015853611614

水のオゾン処理時に残留処理用殺菌剤を生成させる方法

発明者： ハワース,ジョナサン・エヌ ,  マッケオウン,ジュリー・エイ ,  サージェント,ロドニー・エイチ
出願人/特許権者： グレート・レークス・ケミカル・コーポレーション
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-511382
公開番号（公開出願番号）：特表平8-502925
出願日： 1993年11月01日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：

【要約】次亜臭素酸イオンを殺菌性でオゾン安定性の誘導体に優先的に転化させて、これによってオゾンと次亜臭素酸イオンとの接触分解反応を抑えるよう作用する、イミドおよび/またはアミド官能価をもった有効量の次亜臭素酸イオンスキャベンジャーと臭化物イオンとの存在下にて水のオゾン処理を実施する工程を含む、水のオゾン処理時に安定な残留処理用殺菌剤を生成させるための方法と組成物。本発明の方法と組成物は、水の殺菌と藻類の抑制に対して一般的に有用である。

請求項（抜粋）：

次亜臭素酸イオンを殺菌性でオゾン安定性の誘導体に優先的に転化させて、これによってオゾンと次亜臭素酸イオンとの接触分解反応を抑えるよう作用する、イミドおよび/またはアミド官能価をもった有効量の次亜臭素酸イオンスキャベンジャーと臭化物イオンとの存在下にて水のオゾン処理を実施する工程を含む、水のオゾン処理時に安定な残留処理用殺菌剤を生成させる方法。

IPC (8件)：

C02F 1/50 510 ,  A01N 37/32 101 ,  A01N 43/50 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/78