特許
J-GLOBAL ID：200903015873946108
異方性黒鉛薄膜基板及びそれを利用した応用装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-098255
公開番号（公開出願番号）：特開平9-286608
出願日： 1996年04月19日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：
【要約】【課題】 nmからμm程度の穴径の微細穴を有し熱伝導に異方性を有する異方性黒鉛薄膜基板と、その高精度の応用装置を実現することを目的とする。【解決手段】 本発明は、高分子フィルムを出発原料とし、不活性ガス雰囲気中で黒鉛化に至る温度範囲で昇温速度を制御しながら2500°C以上まで焼成し、μm以下の穴径の複数の微細穴を有する異方性黒鉛薄膜基板、またはシリコンやカルシウムを含む化合物を含有した高分子フィルムを出発原料とし、不活性ガス雰囲気中で2500°C以上まで焼成し、μm以下の穴径の複数の微細穴を有する異方性黒鉛薄膜基板、及びその応用装置である。なお、このような微細穴は、予め高分子フィルムを加工して形成していてもよい。
請求項（抜粋）：
高分子フィルムを出発原料とし、不活性ガス雰囲気中で黒鉛化に至る温度範囲で昇温速度を制御しながら2500°C以上まで焼成し、μm以下の穴径の複数の微細穴を有する異方性黒鉛薄膜基板。
IPC (2件)：
C01B 31/04 101
, G02B 21/00
C01B 31/04 101 Z
, G02B 21/00
