特許

J-GLOBAL ID：200903015874205942

プラズマ処理装置

発明者： 浜 貴一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-165229
公開番号（公開出願番号）：特開平10-340887
出願日： 1997年06月06日
公開日（公表日）： 1998年12月22日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ生成用高周波電力のパルスのオン・オフに応じてバイアス用高周波電力のマッチングを合わせることが可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 バイアス用高周波電力用の整合器163は,第1高周波電源162から供給されるプラズマ生成用高周波電力のパルスのオン時に対応する第1整合回路164と,上記パルスのオフ時に対応する第2整合回路166とから構成される。第1整合回路164と第2整合回路166とは,検出器160により検出された上記パルスのオン・オフ情報に基づいて,制御器172の制御により切り替え可能なスイッチング回路168によって,いずれか一方に切り替えられる。

請求項（抜粋）：

処理室内に少なくとも1つの電極を配置し,前記処理室内に処理ガスを導入すると共に,前記電極に対して高周波電力を印加して,前記処理室内に配置された被処理体に対して所定のプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において,前記電極には,パルス制御されたプラズマ生成用高周波電力と,前記プラズマ生成用高周波電力の周波数よりも低い周波数のバイアス用高周波電力とが,それそれに対応する整合器を介して印加され,前記バイアス用高周波電力用の前記整合器は,並列に接続された前記プラズマ生成用高周波電力のパルスのオン時に対応する第1整合回路と,前記プラズマ生成用高周波電力のパルスのオフ時に対応する第2整合回路とから構成され,前記第1整合回路及び前記第2整合回路は,前記プラズマ生成用高周波電力のパルスのオン・オフによってそれぞれ切り替えられることを特徴とする,プラズマ処理装置。