特許

J-GLOBAL ID：200903015899342391

高分子光導波路製造方法

発明者： 塩田 剛史
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-039234
公開番号（公開出願番号）：特開2001-228350
出願日： 2000年02月17日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】 高分子光導波路を安価で簡便に量産するために、溝付クラッドへコア材を容易にかつ光損失無く埋め込む工程を含む光導波路製造方法を提供する。【解決手段】 光導波路のコアとなる溝が形成されたクラッド基板表面にコア材料の高分子溶液を滴下し、前記クラッド基板表面の余分なコア材料を、スキージ等で掃き取りと熱硬化させる工程を少なくとも2回繰り返すことを特徴とする光導波路の製造方法。

請求項（抜粋）：

光導波路のコアとなる溝が形成されたクラッド基板表面にコア材料の高分子溶液を滴下する第一工程と、前記クラッド基板表面の余分なコア材料を、掃き取り熱硬化させる第二工程を少なくとも2回繰り返すことを特徴とする光導波路の製造方法。

Fターム (6件)：

2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA00