特許
J-GLOBAL ID:200903015915313224
微細気泡発生装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
安原 正之 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-157960
公開番号(公開出願番号):特開2002-346547
出願日: 2001年05月25日
公開日(公表日): 2002年12月03日
要約:
【要約】【課題】 深い水槽にも簡便に実施できる微細気泡発生装置の提供。【解決手段】 一方端が開口され他方端が閉口された円筒形状で、開放端にはフランジ部23を設け水槽底面T2に取付ける蓋体2と、先端部には蓋体円筒面に沿ってアウターマグネット部32が複数の磁石を並設して形成し、基端部には蓋体円筒軸を回転軸にしてアウターマグネット部32を回転させるモータ部31を形成する駆動部3と、基端部は蓋体2内の円筒内面でアウターマグネット部32の磁石に対峙させて複数のインナーマグネット部41を設け、先端部は攪拌部42を形成し、アウターマグネット部32の回転に連れて回転する攪拌フィン4と、攪拌フィン4の攪拌部中心に気体を供給可能な供給管5と、攪拌フィン4の回転外方に設けられ、攪拌フィン4の攪拌を邪魔するステータ6とから構成する。
請求項(抜粋):
水槽底部に設けられ、複数の羽根板が回転軸に対し放射状に設けられて回転可能な攪拌部を形成してなる攪拌フィンと、攪拌フィンの下部に設けられ、攪拌フィンを回転させる駆動部と、一端が攪拌部の回転中心に位置されて開口され、他端が水槽内の攪拌部へ供給する気体に開口され、他端の開口した気体を攪拌部へ供給可能な供給管と、からなることを特徴とする微細気泡発生装置。
IPC (5件):
C02F 1/24 ZAB
, B01F 3/04
, B01F 5/16
, B01F 13/08
, B01F 15/02
FI (5件):
C02F 1/24 ZAB C
, B01F 3/04 C
, B01F 5/16
, B01F 13/08
, B01F 15/02 A
Fターム (9件):
4D037AA12
, 4D037AB02
, 4D037BA03
, 4D037BB05
, 4G035AB18
, 4G035AE13
, 4G036AC24
, 4G037AA01
, 4G037EA04
引用特許:
出願人引用 (7件)
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特開昭49-049258
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特開昭47-003981
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反応器の液体を攪拌しこの液体にガスを注入する装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-288244
出願人:レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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撹拌装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-141079
出願人:宮内宏, 日本エレクトロン株式会社, 有限会社秋元技研
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特開昭49-049258
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特開昭63-224721
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特開平4-200699
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審査官引用 (7件)
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特開昭49-049258
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特開昭49-049258
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特開昭47-003981
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特開昭63-224721
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撹拌装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-141079
出願人:宮内宏, 日本エレクトロン株式会社, 有限会社秋元技研
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反応器の液体を攪拌しこの液体にガスを注入する装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-288244
出願人:レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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特開平4-200699
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