特許

J-GLOBAL ID：200903015915402499

電子ビーム描画用アパーチャ

発明者： 野末 寛
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-177882
公開番号（公開出願番号）：特開平8-045808
出願日： 1994年07月29日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】複数の描画用開口パターン11〜15が並べ形成された電子ビーム描画用アパーチャにおいて、描画されるレジストパターン寸法の制御し易く高精度に形成しかつアパーチャ自体の設計製作を容易にし安価に得られるようにする。【構成】最外郭の描画用開口パターン11と15に所定の間隔で離間して配設されるとともにレジストの解像限界内で幅をもつ開口によって通過する電子量を制御し近接効果を補正する単純な矩形形状の電子量制御用開口16,17を設け、この電子量制御用開口16,17を通過する電子量が描画されるパターンへの近接効果の影響度を緩やかに作用させ描画されるパターン寸法を制御し易くしている。

請求項（抜粋）：

半導体基板に被着されたレジストに描画すべき描画用開口パターンの複数を板部材に並べて形成された電子ビーム描画用アパーチャにおいて、最外側の前記描画用開口パターンに所定の間隔をおいて隣接して配設されるとともに前記最外側の前記描画用開口パターンによる描画パターンへの近接効果を補正する前記レジストの解像限界以下の電子量を通過する幅をもつ電子量制御用開口を備えることを特徴とする電子ビーム描画用アパーチャ。