特許

J-GLOBAL ID：200903015935442780

表面処理装置

発明者： 安齋 文夫 ,  石井 勝己
出願人/特許権者： 株式会社アルメックス
代理人 (1件)： 長島 悦夫 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-198072
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013296
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 粉塵の発生の抑制化および給電の確実化を図りつつ表面処理品質を大幅に向上可能にする。【解決手段】 搬送(X)方向に延設されたガイドレールに支持された冶具を介して保持されたワークを搬送可能な搬送手段と、搬送中のワークに当該冶具を介して給電する給電手段とを有し、表面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電しつつ表面処理を施すことができる表面処理装置において、冶具20をガイドレール37に転がり係合機構90を介して支持させ、給電手段50がX方向に延設された給電レール51と冶具20側に装着されかつ給電レール51と摺接して集電可能な集電子55とを含み形成されている。

請求項（抜粋）：

搬送方向に延設されたガイドレールに支持された冶具を介して当該冶具に保持されたワークを搬送可能な搬送手段と、搬送中のワークに当該冶具を介して給電する給電手段とを有し、表面処理槽内でワークを連続搬送かつ給電しつつワークに表面処理を施す表面処理装置において、前記冶具を前記ガイドレールに転がり係合機構を介して支持させるとともに、前記給電手段が搬送方向に延設された給電レールと前記冶具側に装着されかつ給電レールと摺接して集電可能な集電子とを含み形成されている、表面処理装置。

IPC (2件)：

C25D 21/00 ,  C25D 17/00

FI (2件)：

C25D 21/00 E ,  C25D 17/00 K

引用特許：

審査官引用 (1件)

• めっき装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-302889   出願人：大分日本電気株式会社