特許

J-GLOBAL ID：200903015941210093

基板処理装置、基板の搬送方法及び露光装置

発明者： 江渡 良
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-216551
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031639
出願日： 2001年07月17日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】 ロードロック室の真空引きに伴う基板の冷却によるスループットの低下を防止する。【解決手段】 大気と異なる雰囲気で基板の処理を行う第一の処理チャンバ(室)1と、該第一の処理チャンバ1及び大気と夫々開閉手段としての第一のゲート弁4及び第二のゲート弁5を介して連結される第二の処理室としてのロードロック室3とを有し、該ロードロック室3を経由して前記基板を第一の処理チャンバ1に搬入し処理する減圧・常圧基板処理装置であって、ロードロック室3に前記基板が搬入されるより以前に該基板を加熱して温度調整する温調手段11を設けた。

請求項（抜粋）：

大気と異なる雰囲気で基板の処理を行う第一の処理室と、該第一の処理室及び大気と夫々開閉手段を介して連結される第二の処理室とを有し、該第二の処理室を経由して前記基板を前記第一の処理室に搬入し処理する減圧・常圧基板処理装置において、前記第二の処理室に前記基板が搬入されるより以前に該基板を温度調整する温調手段を設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/68 ,  B65G 49/00 ,  B65G 49/06 ,  B65G 49/07 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

H01L 21/68 A ,  B65G 49/00 A ,  B65G 49/06 Z ,  B65G 49/07 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 541 L ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (22件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031GA37 ,  5F031JA46 ,  5F031JA51 ,  5F031MA27 ,  5F031NA02 ,  5F031NA05 ,  5F031NA09 ,  5F031PA30 ,  5F046AA17 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046DA26 ,  5F046GA08 ,  5F046GA14 ,  5F056CB40 ,  5F056EA12